Применение оптических компонентов в литографических машинах

В литографических машинах оптическая система отвечает за фокусировку и проецирование светового луча, излучаемого источником света, на кремниевую пластин для достижения экспозиции схем. Поэтому проектирование и оптимизация оптических компонентов в литографических системах имеют решающее значение для повышения производительности литографических машин.

Проекционная линза

Проекционная линза в литографическом аппарате обычно состоит из серии линз, включая выпуклые линзы, вогнутые линзы и призмы. Его функция заключается в фокусировке и проецировании светового луча, излучаемого источником света. В литографическом аппарате проекционная линза уменьшает схему на маске до определенного масштаба, а затем фокусирует ее на пластинах, покрытых фоторезистом.

Оптическая система выравнивания

Система оптического выравнивания в литографическом станке в основном используется для обеспечения точности выравнивания между фотомаской и кремниевой пластиной. Во время процесса литографии ошибки в оборудовании и материалах могут вызвать позиционные отклонения между фотомаской и кремниевой пластиной, что приводит к искажению или неточности в формах рисунка. Поэтому система выравнивания использует точные оптические компоненты, такие как эталонные зеркала, стандартные линзы и оптические энкодеры для измерения и регулировки, обеспечивая высокоточное выравнивание и визуализацию во время процесса литографии.

Оптические линзы

Оптические зеркала: Зеркала используются в литографических аппаратах для изменения направления светового пути, направляя свет в правильное положение. Точность поверхности и стабильность зеркал значительно влияют на производительность литографического аппарата.

Сплиттеры луча:Разделители луча-это оптические компоненты, которые разделяют один световой луч на несколько лучей. Они используются в литографических машинах для генерации нескольких параллельных лучей, что позволяет одновременно экспонировать несколько чипов.

Решетки-это оптические компоненты, которые разделяют свет на несколько суб-лучей и контролируют их фазу и амплитуду. Они используются в литографических машинах для создания сложных узоров и структур.

Фильтры:Фильтры используются для фильтрации нежелательных длин волн света, улучшая точность и качество литографии.